半導體薄膜沉積PVD設備是決定關鍵制程的設備，磁性組件是其中的關鍵零部件。該工藝利用濺射源在工藝腔室內形成交互的電磁場，延長電子的運動路徑進而提高等離子的濃度，最終實現沉積效果的提升。磁場的形態是PVD工藝的關鍵，直接影響到金屬薄膜沉積的速率與效果，以及靶材的利用率。

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