高性能芯片制程中的極紫外光刻雙工件臺，是先進集成電路裝備中的重要核心設備，其加工精度決定了芯片的集成度與性能。超精密二維大行程平面定位磁浮平臺，作為該設備系統中最重要的部件，是功能與精度實現的基礎。

這種尖端應用對大規格磁鋼的超高尺寸精度、高磁性能、耐蝕鍍層、零缺陷外觀等各方面，提出了超越傳統工藝水準的嚴苛要求，使磁鋼的精密加工、制造與檢驗成為極具挑戰性的任務。

我們深入掌握此類半導體精密磁鋼的特殊要求，已實現批量穩定交付，并可從咨詢設計、快速供樣到批量生產，提供全流程定制化服務。